опрос на cleandex
Центр маркетинговой компетенции в области чистых технологий маркетинговой группы «Текарт»
+7 (495) 790 75 91 #133 Оставить заявку

«Роснано» вложило 40 млн евро в передовую голландскую микроэлектронику

24.08.2012
«Роснано» вложило 40 млн евро в передовую голландскую микроэлектронику

«Роснано» инвестирует в голландскую Mapper Lithography, занятую разработкой оборудования для производства подложек по технологии безмасочной литографии

«Роснано» объявила об инвестициях в голландского разработчика технологии безмасочной литографии Mapper Lithography. Как сообщают обе компании, сумма инвестиций составит 40 млн евро.

Помимо «Роснано» в инвестировании Mapper примут участие действующие акционеры компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и Demcon, частные инвесторы, семейные инвестиционные фонды, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций, которые совместно вложат в Mapper Lithography еще 40 млн.

Таким образом, Mapper Lithography в нынешнем раунде инвестиций получит 80 млн евро.

Основанная в Делфтском техническом университете Mapper Lithography, занимается разработкой литографического оборудования нового поколения на основе технологии множественных электронных лучей (multiple e-beam).

Эта технология - альтернатива существующему методу фотолитографии, применяемому при производстве подложек микросхем. Как пишут в своем сообщении «Роснано» и Mapper, разработки голландской компании позволяют производить до 100 подложек в час при разрешающей способности 22 нм и выше, что соответствует применяемому в микроэлектронике топологическому стандарту 14 нм и 10 нм.

В результате инвестиции Mapper выпустит несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, выпуск которой ожидается в 2012 г., использует более 1300 «электронных лучей» и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластер Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, обрабатывает 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности Mapper будут расширены до 20 литографических машин в год.

Как ожидается, в России будет создано предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) – ключевого компонента оборудования Mapper. Его мощность составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами.

Технология безмасочной литографии на платформе Mapper поддерживается международной программой Imagine, основными участниками которой являются тайваньский производитель микроэлектроники TSMC и французская STMicroelectronics.

В 2012 г. программа Imagine была продлена на три года, на протяжении которых производители микроэлектроники смогут протестировать опытное оборудование Matrix в реальной производственной обстановке.

Источник: CNews
Все комментарии
Комментировать
Введите число, которое видите на картинке

Чистые технологии: